SK하이닉스 핵심 기술 중국에 넘긴 협력사 부사장 실형 확정 > 공지사항

SK하이닉스의 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 제공한 혐의로 기소된 협력사 부사장 A씨가 대법원에서 징역 1년6개월 실형을 확정받았다.
대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반(영업비밀 누설 등) 혐의로 기소된 장비업체 B사 부사장 A씨에게 징역 1년6개월을 선고한 원심 판결을 확정했다. 연구소장 등 다른 직원 3명에게는 각각 징역 1년~1년6개월의 실형, 다른 직원 한 명은 징역 8개월에 집행유예 2년을 확정받았다. 행위자와 법인을 함께 처벌하는 양벌규정에 따라 함께 기소된 B사에는 벌금 10억원이 확정됐다.
이들은 2018년 8월부터 2020년 6월까지 SK하이닉스와 협력하며 알게 된 차세대 반도체 제조기술인 HKMG과 세정 장비 등 핵심 기술을 중국의 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의를 받는다. HKMG는 D램 반도체의 속도를 높이면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 신기술로 꼽힌다. 삼성전자 반도체 장비업체 세메스의 전직 직원 등에게도 첨단 기술을 몰래 취득한 다음 이를 활용해 중국 수출용 장비를 개발하려 한 혐의도 있다.
1심은 A씨에게 징역 1년을 선고했다. 1심 재판부는 “새로운 수출 활로를 모색하기 위해 홍보와 협상을 하는 과정에서 저질러진 일이어서 동기나 경위에 있어 어느 정도 참작할 바가 있다”며 “이른바 산업스파이를 통한 정보의 수집·유출과는 위법성이나 비난 가능성에서 차이가 있다”고 봤다.
2심은 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의를 무죄로 봤던 1심과 달리 이 부분도 유죄로 판단했다. 이어 1심의 양형이 너무 가볍다며 A씨에게 징역 1년6개월을 선고하고 1심에서 집행유예를 선고받은 직원 3명에게도 실형(징역 1년~1년6개월)을 선고했다. 1심에서 무죄를 선고받았던 나머지 직원 1명에게는 징역형 집행유예가 선고됐다.
당시 재판부는 “피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리 사회 공공의 연구․개발 및 보호 장치․시스템 구축 노력과 의지를 무력화하고 허탈감을 안겨줬으며, 관련 분야의 건전한 경쟁과 거래질서를 심각하게 저해했다”며 “사회 전반과 산업계에 미친 악영향과 부정적 파급력을 고려하지 않을 수 없다”고 판단했다.
대법원도 원심판결에 법리를 오해한 잘못이 없다고 보고 양측의 상고를 기각했다.

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